信然無油空壓機一舉打破品牌壓縮機在芯片光刻機曝光機行業(yè)的壟斷地位，成功為某高端芯片制造商的進口光刻機曝光機領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)零的突破，標(biāo)志著信然無油螺桿壓縮機已經(jīng)可以滿足光刻機曝光機領(lǐng)域?qū)諝獾目量桃蟆?/span>

曝光機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，制造和維護需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此曝光機價格昂貴，通常在 3 千萬至 5 億美元。

光刻機（lithography）又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

自從臺積電真的斷供華為，讓其無高端芯片可用后，我們真的是不再抱有任何幻想。對于核心的芯片技術(shù)，只有掌握在自己手里才好，否則隨時都有可能被卡脖子。

面對美國的無理打壓，國內(nèi)很多企業(yè)都表示將投入巨資來研發(fā)芯片，包括阿里、小米、格力等巨頭，以及其它很多芯片企業(yè)加入，一時間國內(nèi)芯片行業(yè)欣欣向榮。在這里面表現(xiàn)好的還是中芯國際，據(jù)其聯(lián)席執(zhí)行官梁孟松所說，7nm的研發(fā)工作已經(jīng)完成。

然而，邁過了這道坎，卻又迎來了另外一道坎，ASML的EUV光刻機卻不賣給我們，背后又是美國在搗鬼。沒有EUV光刻機，即使我們的制程達到了3nm也沒用，根本就無法量產(chǎn)。

怎么辦？還是得靠自己。過去兩年來，接連看到看到類似“ASML坐不住了”，“ASML扛不住了”，“ASML再見了”的自媒體文章，點進去一看都是標(biāo)題黨，自我安慰。不過，也確實有一些實現(xiàn)了技術(shù)突破。

就在前段時間，南京大學(xué)研究出了寬禁帶半導(dǎo)體pn結(jié)型EUV探測器。探測器是制造光刻機的一個關(guān)鍵零部件，之前使用的都是Si基紫外探測器，這種探測器存在不少缺陷，特別是對于EUV光刻機，需要更好的技術(shù)。

如今這項技術(shù)被我國的研究團隊所突破，未來將會使用在新一代光刻機上面。很多網(wǎng)友看到這項成果后，就認(rèn)為我們也將可以生產(chǎn)EUV光刻機了，ASML地位將不保了，壟斷要被打破了。

在光刻機關(guān)鍵技術(shù)上實現(xiàn)了突破，確實是一件值得高興的事情，但我們還是要理性看待國內(nèi)光刻機和ASML的差距。ASML是全球較好的光刻機制造商，其生產(chǎn)的EUV光刻機可以用于3nm的量產(chǎn)。而國內(nèi)光刻機規(guī)模較大的制造商是上海微電子集團，仍然在28nm階段，差距還是非常大。

目前，全球高端光刻機市場基本被ASML壟斷。2021年ASML營收186.11億歐元，每臺EUV光刻機售價高達1.5億歐元。對于這樣一個利潤豐厚的市場，誰都眼饞。因此，不少企業(yè)都在加緊技術(shù)研發(fā)，尋找替代EUV光刻機的設(shè)備。

佳能、鎧俠等廠商就聯(lián)合研發(fā)了NIL工藝，在不需要EUV光刻機的情況下，也能達到5nm。還有華為在進行光電芯片的研發(fā)，蘋果、英特爾都在自研芯片封裝技術(shù)，俄羅斯投入巨資想研發(fā)X射線光刻機。

不過，想超越或者取代ASML光刻機，沒那么容易。中國工程院院士，著名集成電路專家吳漢明就說過，光刻機是全球化的結(jié)晶，光靠一個國家做不出來。

首先，光刻機的零部件有10多萬個，非常復(fù)雜，供應(yīng)商就有5000多家，來自全球40多個國家。其中來自荷蘭本土的就有1600個，歐美其它國家的也有不少，亞洲的供應(yīng)商也有上千家，但大多數(shù)來說日本、韓國、中國臺灣，至于中國大陸沒有看到公布的數(shù)據(jù)。

其次，一臺光刻機需要很多技術(shù)，而且也來自世界各國，比如瑞典的軸承和數(shù)控機臺、德國機械工藝和蔡司鏡頭、美國的光源設(shè)備和激光等等，這些技術(shù)，我們還不掌握，或者有比較大的差距。美國之所以對ASML有那么大的話語權(quán)，就是因為很多技術(shù)來自美企。

實際上，ASML非?？粗刂袊袌觯蚕氚迅嗟墓饪虣C賣給中國。在2022年一季度，ASML就向中國市場出貨了23臺DUV光刻機。雖然還沒有EUV光刻機，但DUV光刻機管夠。

作為全球較大的芯片消費市場，ASML其實也擔(dān)心，通過封鎖的手段，只會加快我們自研的步伐，雖然暫時無法取代，但隨著技術(shù)的進步，依賴性就會不斷降低。如此一來，不但會丟失中國市場，還會出現(xiàn)一個強大的競爭對手。

在上個月，中國電子科技集團第九研究所傳來喜訊，表示成功研制出了“寬頻帶同軸探針”。這個產(chǎn)品主要用來芯片的良率測試，是一個非常關(guān)鍵的工具。此前，這項技術(shù)被國外牢牢把控，如今實現(xiàn)了自主研發(fā)，無疑又是一大進步。

雖然我們無法立即制造出更好的光刻機，但在從每個關(guān)鍵技術(shù)上不斷突破，也是很大的進步，如果我們掌握了光刻機的關(guān)鍵技術(shù)，一樣可以左右光刻機的發(fā)展。所以，打破壟斷還需逐個突破。

理性認(rèn)識到國內(nèi)光刻機與ASML的差距，才能更好地彌補差距。不要盲目的帶節(jié)奏，沉下心好好進行技術(shù)研發(fā)才是硬道理。